工業(yè)顯微鏡的照明系統(tǒng)是其成像質量的核心影響因素之一，不同照明方式直接影響圖像的亮度、對比度和清晰度。以下是工業(yè)顯微鏡照明系統(tǒng)的分類、特點及應用場景：

一、基礎照明類型

透射照明

原理：光源穿透透明/半透明樣品，利用輪廓光成像。

特點：邊緣清晰，適合觀察內部結構（如液晶面板分層、生物切片）。

應用：電子元件透明封裝檢測、材料內部缺陷分析。

反射照明

垂直反射：光源垂直照射樣品表面，突出紋理細節(jié)。

適用場景：金屬零件表面粗糙度測量、礦物晶體觀察。

斜反射：光源以角度照射，減少陰影干擾。

適用場景：復雜結構（如齒輪齒形、模具刻痕）檢測。

環(huán)形照明

原理：環(huán)狀光源均勻照射樣品，消除方向性陰影。

特點：高均勻性，適合精密零件（如半導體晶圓、光學鏡片）。

應用：玻璃劃痕檢測、軸承滾珠表面質量檢測。

二、**照明技術

暗場照明

原理：僅收集樣品散射光，暗背景下缺陷清晰可見。

特點：對低反射區(qū)域（如劃痕、塵埃）敏感。

應用：硅片表面污染檢測、陶瓷裂紋分析。

同軸照明

原理：光束通過物鏡中心軸反射，避免眩光。

特點：適合光滑/鏡面樣品（如拋光金屬、鍍膜玻璃）。

應用：手機外殼鍍膜均勻性檢測、反光片表面檢查。

近垂直照明（NVI）

原理：LED光源貼近光軸，模擬自然光無陰影效果。

特點：適合深孔/凹槽樣品（如模具、鉆孔電路板）。

應用：微型鉆孔質量檢測、微小零件尺寸測量。

熒光照明

原理：短波激發(fā)光誘導樣品熒光標記發(fā)光。

特點：高靈敏度，適合生物樣本或特殊材料。

應用：熒光滲透檢測、納米材料分布分析。

偏光照明

原理：分析偏光特性，增強各向異性材料對比度。

特點：適合晶體、液晶、應力分析。

應用：金屬晶粒取向檢測、光纖應力雙折射測量。

微分干涉（DIC）照明

原理：Nomarski棱鏡分光形成立體浮雕效果。

特點：凸顯樣品表面微小起伏。

應用：硅片表面波紋檢測、細胞培養(yǎng)皿生長狀態(tài)觀察。

三、光源類型對比

四、選型建議

樣品特性優(yōu)先：

透明/半透明樣品 → 透射照明

不透明/高反射樣品 → 反射/暗場照明

復雜三維結構 → 環(huán)形/近垂直照明

檢測需求匹配：

表面缺陷檢測 → 暗場/微分干涉

尺寸測量 → 同軸/垂直反射

材料分析 → 熒光/偏光

環(huán)境適應性：

生產線高頻使用 → LED光源（免維護）

實驗室高精度檢測 → 激光光源（需配合冷卻系統(tǒng)）

通過合理選擇照明系統(tǒng)，可顯著提升工業(yè)顯微鏡的檢測效率和圖像質量，滿足不同場景的精細化觀測需求。